ASML breidt samenwerkingen met Samsung uit

In dit artikel:

ASML heeft dinsdag bekendgemaakt de samenwerking met Samsung Electronics te versterken, nadat het eerder een vergelijkbare overeenkomst met TSMC aankondigde. Samsung helpt ASML bij de overstap van 6- naar 12-inch photomasks voor High NA EUV-lithografie. Grotere maskers moeten de productiviteit verhogen en de kosten verlagen, wat volgens ASML de hele halfgeleiderindustrie ten goede komt. Samsung wil High NA EUV bovendien als eerste bedrijf op grote schaal inzetten voor de productie van DRAM-geheugenchips, vanaf 2028. Financiële details zijn niet bekendgemaakt.