Chinese chipbazen vragen steunbeleid om 'China's ASML' te bouwen

In dit artikel:

Topbestuurders uit de Chinese halfgeleiderindustrie hebben op 5 maart in een gezamenlijk essay opgeroepen tot een nationale, gecoördineerde inspanning om tussen 2026 en 2030 werkende lithografiesystemen te ontwikkelen. De oproep kwam van Zhao Jinrong (Naura Technology Group), Chen Nanxiang (Yangtze Memory Technologies) en Liu Weiping (Empyrean Technology), samen met toonaangevende onderzoeksinstituten; hun stuk verscheen in Science and Technology Review, een vakblad gelieerd aan de Chinese wetenschap- en technologiegemeenschap.

De auteurs vragen de overheid om middelen en expertise te bundelen zodat losse technologische doorbraken — op het gebied van EUV-laserbronnen, wafertafels en optische systemen — geïntegreerd kunnen worden tot complete machines. Ze benadrukken dat China al vooruitgang heeft geboekt in onderdelen, maar dat het samenvoegen van die componenten tot een betrouwbaar, operationeel systeem de grote hindernis is die de komende vijfjarenperiode moet worden overwonnen. Daarnaast noemen ze knelpunten in Electronic Design Automation (EDA)-software en in kritische materialen zoals siliciumwafers en elektronische gassen, waarvoor ook nationale coördinatie nodig is.

De oproep sluit aan op Pekings bredere ambitie voor technologische zelfvoorziening, vooral sinds de Verenigde Staten vanaf 2020 exportbeperkingen instelden om Chinese capaciteiten onder 7 nm te remmen. ASML uit Nederland is momenteel de enige leverancier van EUV-lithografiemachines — essentieel voor de meest geavanceerde chips — wat de urgentie bij Chinese beleidsmakers en industrie vergroot. De auteurs pleiten ook voor publieke onderzoeksplatforms met geavanceerde procescapaciteiten om nieuwe apparaatstructuren, apparatuur, materialen en EDA-software te ontwikkelen en te verifiëren. Het Chinese regeerakkoord noemt halfgeleiders expliciet als een kernsector die verder moet worden uitgebouwd.