Exclusief: ASML onthult EUV-doorbraak die tegen 2030 50% meer chips oplevert
In dit artikel:
Onderzoekers van ASML in Californië hebben een methode ontwikkeld om het vermogen van de EUV-lichtbron in hun chipmachines te verhogen van circa 600 watt naar 1.000 watt. De vondst, gemeld op 23 februari vanuit de faciliteiten nabij San Diego, moet de productiesnelheid en kostenefficiëntie van geavanceerde chipfabricage flink verbeteren en zo het technologisch voordeel van ASML beschermen tegen opkomende Amerikaanse en Chinese concurrentie.
ASML is de enige commerciële leverancier van extreme ultraviolet (EUV)-lithografiemachines, essentieel voor fabrikanten als TSMC en Intel. Meer vermogen betekent kortere belichtingstijden per wafer, waardoor een machine meer chips per uur kan afdrukken. ASML verwacht dat de throughput kan stijgen van ongeveer 220 wafers per uur nu naar circa 330 wafers per uur rond 2030 — een verhoging tot ongeveer 50% in productiecapaciteit, afhankelijk van chipgrootte.
De technische doorbraak berust op twee hoofdwijzigingen in de EUV-bron: het verdubbelen van het aantal vloeibare tindruppels tot ongeveer 100.000 per seconde en het gebruik van twee kleinere laserpulsen om die druppels in plasma te veranderen, in plaats van één vormpuls zoals nu gebruikelijk. In ASML’s proces worden tindruppels met een CO2-laser verhit tot een plasma dat EUV-licht van 13,5 nanometer uitzendt; dat licht wordt door precisie-optiek (onder meer van Carl Zeiss) naar de wafer geleid. Michael Purvis, hoofdtechnoloog voor de EUV-bron, benadrukte dat het systeem 1.000 watt produceert onder klant-specifieke omstandigheden en dus geen vrijblijvende demonstratie is.
De stap naar 1.000 watt zou niet alleen bestaande klanten lagere kosten per chip bieden — zoals ASML’s Teun van Gogh aangeeft — maar ook een strategisch antwoord vormen op investeringen in alternatieve systemen, bijvoorbeeld door Amerikaanse startups Substrate en xLight en op Chinese nationale programma’s om eigen machines te ontwikkelen. ASML ziet bovendien ruimte voor verdere opschaling; er is volgens de onderzoekers een pad richting 1.500 watt en mogelijk zelfs 2.000 watt op langere termijn.
Kortom: met deze verbeteringen verstevigt ASML zijn leidende positie in EUV-technologie door zowel de brute output van de lichtbron als de efficiëntie van chipproductie substantieel te verhogen, wat directe gevolgen heeft voor kosten, capaciteit en geopolitieke concurrentie in de halfgeleiderindustrie.