Exclusief: China's 'Manhattanproject' voor AI-chips om het Westen te evenaren

In dit artikel:

In een streng beveiligd laboratorium in Shenzhen hebben Chinese onderzoekers een prototype gebouwd van een extreem-ultraviolet (EUV) lithografiemachine — de sleutelapparatuur voor het maken van de meest geavanceerde halfgeleiderchips. Het toestel, dat begin 2025 gereed kwam en nu getest wordt, kan succesvol EUV-licht genereren maar heeft nog geen werkende chips opgeleverd. Reuters bracht de doorbraak naar buiten op basis van bronnen met directe kennis van het project.

Het prototype, dat bijna een volledige fabrieksvloer beslaat en bewust veel groter en ruwbouwachtiger is dan westerse systemen, is volgens die bronnen het resultaat van reverse-engineering door een team van voormalige ASML-ingenieurs. ASML uit Veldhoven is tot nu toe de enige fabrikant die commercieel levensvatbare EUV-machines maakt; die systemen zijn cruciaal voor het etsen van extreem kleine schakelingen in chips van bedrijven als Nvidia en TSMC. De ontwikkeling in Shenzhen vormt daarom een significante stap in China’s streven naar chiponafhankelijkheid.

Het project maakt deel uit van een zesjarige, door de staat aangestuurde halfgeleiderstrategie die hoog op de prioriteitenlijst van president Xi Jinping staat en onder toezicht zou vallen van topfunctionarissen binnen de partij. Huawei speelt een centrale rol in de coördinatie van bedrijven en staatsinstituten die betrokken zijn; duizenden ingenieurs zouden meewerken. Bronnen omschrijven de operatie als zeer geheim — medewerkers werken onder aliassen en krijgen soms valse identiteitsbewijzen, teams zijn geritualiseerd geïsoleerd en sommige werknemers slapen op locatie. Rekrutering van buitenlandse experts, met hoge tekenbonussen en stimuleringspakketten, maakte het mogelijk kennis en ervaring naar China te halen.

China mikt er officieel op om op het prototype in 2028 functionele chips te produceren, maar ingewijden beschouwen 2030 als realistischer. Dat is desalniettemin eerder dan de decenia die sommige westerse analisten eerder inschatten. Technische obstakels blijven groot, vooral het repliceren van de uiterst precieze optische componenten — onder meer afkomstig van Zeiss — en betrouwbare, krachtige EUV-lichtbronnen. Chinese onderzoeksinstituten zoals CIOMP beweren vooruitgang te boeken met eigen optische oplossingen en lichtbronnen.

De bouw van het prototype werd mede mogelijk gemaakt door onderdelen uit oudere ASML-machines en componenten van leveranciers via tweedehandsmarkten en veilingen. Ook zouden Japanse fabrikanten zoals Nikon en Canon onderdelen hebben geleverd via complexe tussenhandel. Net als in het Westen zijn er juridische en veiligheidsimplicaties: ASML heeft juridische stappen ondernomen tegen vermeende diefstal van bedrijfsgeheimen en Europese inlichtingen waarschuwen voor grootschalige spionage en wervingscampagnes door China.

De ontwikkeling veroorzaakt geopolitieke spanningen in de context van exportbeperkingen waarmee de VS en bondgenoten sinds 2018 proberen te voorkomen dat China toegang krijgt tot geavanceerde lithografietechnologie. Zo is de verkoop van volledige EUV-systemen aan China tot nu toe altijd verboden gebleven. Beijing heeft niet gereageerd op verzoeken om commentaar; ook Huawei en meerdere betrokken instituten reageerden niet.

Conclusie: China heeft met hulp van teruggekeerde specialisten en grootschalige staatscoördinatie een belangrijke technische mijlpaal bereikt door een functionerend EUV-prototype te bouwen. Hoewel operationele en optische verfijningen nog ontbreken en commerciële productiecijfers uitblijven, verkort dit project de tijdlijn richting halfgeleiderzelfvoorziening en vergroot het de kans op een ingrijpende verschuiving in de mondiale chipsupplychain en de technologische competitie met het Westen.