Reuters: doorbraak ASML met EUV-lichtbronnen die meer chips opleveren

In dit artikel:

ASML heeft volgens een Reuters-interview maandag een techniek ontwikkeld om het vermogen van de EUV-lichtbron van zijn chipsystemen fors te verhogen — van circa 600 naar ongeveer 1.000 watt — wat tegen het einde van dit decennium de productiecapaciteit per machine met naar schatting tot 50% kan verhogen. Michael Purvis, hoofdtechnoloog voor de EUV-lichtbron bij ASML in Veldhoven, benadrukte dat het om een operationeel systeem gaat en niet om een beperkte demonstratie: "Het is een systeem dat 1.000 watt kan produceren onder dezelfde omstandigheden als bij een klant."

De versterkte lichtbron kan ASML helpen zijn leidende positie te vrijwaren nu Amerikaanse en Chinese concurrenten aan gerelateerde technologie werken. De VS coördineren met Nederland beperkingen op export van dergelijke machines naar China, terwijl Amerikaanse start-ups als Substrate en xLight honderden miljoenen dollars hebben opgehaald — xLight met steun van de Amerikaanse regering — om in te lopen op ASML’s technologie.